Transcription of 반도체 산업에서의 XPS 및 AFM 분석 기술
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반도체 산업에서의 XPS 및 AFM 분석 기술
/ Vacuum Magazine 2016 12 December24< > 2005 (KAIST) , 2010 3 (ETRI) , 2013 5 Hewlett-Packard Labs , 2013 7 . 2010 , 2015 3 2015 4 . ( , , , , ) ( , , ) , SIMS(Secondary Ion Mass spectroscopy ), AES(Auger Electron spectroscopy ), ISS(Ion Scattering spectroscopy ), RBS(Rutherford Back Scattering), PES(Photo Emission spectroscopy ), LEED(Low Energy Electron Diffraction), RHEED(Reflection High Energy Diffraction), EELS(Electron Energy Loss spectroscopy ), STM(Scanning Tunneling Microscopy), AFM(Atomic Force Microscopy), HIM(Helium Ion Microscopy), ATP(Atom Probe Tomography) . (surface science).
엑스선 광전자 분광법(X-ray Photoelectron Spectroscopy; XPS)은 표면분석에 있어서 가장 널리 사용 되고 있는 분석 기술 중 하나로서 1905년 아인슈타인이 발 표한 광전효과의 이론을 기반으로 한 분석법이다. 분석하 고자 하는 시료에 X-선 중 상대적으로 파장이 긴 수십에
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