Transcription of Chapter 7 電漿的基礎原理 - isu.edu.tw
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Chapter 7 電漿的基礎原理 - isu.edu.tw
1 Chapter 7 2 CVD 3 CVD PVD 4 ? ? 5 ? 6 ( ) ( ) ni= ne( ) =ne/(ne+ nn)ne: ni: nn: 7 (High density plasma ,HDP) 1 5% ~100%8 ( ) 9 (Radio frequency, RF) 10 11 e-+ AA++ 2 e- 12 13 e-+ AA* + e-A* A + h ( ) 14 15 h h h.
2 目標 • 列出至少三種用到電漿的半導體製程 • 列出電漿中的主要三種碰撞 • 說明平均自由路徑 • 說明電漿如何增強蝕刻及cvd 製程
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