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2. 最先端FinFETプロセス・集積化技術

nm世代VLSIを担うMoreMoore技術 三次元ゲートMOSFET 小特集 2 最先端FinFETプロセス・集積化技術 も線幅が細くかつ均一なfinを作ることができる.図3 にこのSWT法と電子ビーム露光による場合,そして

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