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2. 最先端FinFETプロセス・集積化技術

要である.また平面形MOSFETと同様にソース・ドレー ン部にSiGe,SiC等を用いることでチャネル部に応力 を印加できて,キャリヤ移動度を改善できる可能性も示 唆されている().一方,低抵抗金属のソース・ドレーン

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  Mosfets

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