반도체 산업에서의 XPS 및 AFM 분석 기술
엑스선 광전자 분광법(X-ray Photoelectron Spectroscopy; XPS)은 표면분석에 있어서 가장 널리 사용 되고 있는 분석 기술 중 하나로서 1905년 아인슈타인이 발 표한 광전효과의 이론을 기반으로 한 분석법이다. 분석하 고자 하는 시료에 X-선 중 상대적으로 파장이 긴 수십에
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