Example: biology
反応性スパッタリング法による Cr–N 作製とその特性

反応性スパッタリング法による Cr–N 作製とその特性

Back to document page

503 Fig. 1 Schematic diagram of reactive DC magnetron sputter-ing apparatus. Fig. 2 Typical spectra of chromium and nitrogen in sputter-ing. (sputtering power=300 W, argon partial pressure=0.020

  Sputter

Download 反応性スパッタリング法による Cr–N 作製とその特性


Information

Domain:

Source:

Link to this page:

Please notify us if you found a problem with this document:

Other abuse

Advertisement

Related search queries